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【系列】rgl系列管式炉的概述 |
【xilie】2012-11-5发表: rgl系列管式炉的概述 rgl系列管式炉的概述rgl系列管式炉专门设计用于半导体材料扩散、氧化工艺。同时也用于太阳能电池行业的氮化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、多晶硅等多种渡膜（lpcvd）工艺。窑炉采用fec陶瓷纤维 rgl系列管式炉的概述rgl系列管式炉的概述 rgl系列管式炉专门设计用于半导体材料扩散、氧化工艺。同时也用于太阳能电池行业的氮化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、多晶硅等多种渡膜（lpcvd）工艺。窑炉采用fec陶瓷纤维管保温、kanthel炉丝，优质气炼石英管作为炉膛, 可预抽真空并可通入参与反应沉积的气体。 温度控制系统选用日本进口单回路智能温度控制仪控制、温区设计隔板结构，恒温区温度均匀。进口或国产气氛控制系统，质量流量计控制。设备具有温度均匀、控制稳定、温区间温度扰动小、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想企业的研制、生产设备。 (【xilie】更新:2012/11/5 11:21:57)
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